[seminar] Seminar FO , Hećimović

[hbuljan at phy.hr]

Poštovani kolege,

Podsjećam na današnji seminar.

Srdačan pozdrav,
Hrvoje Buljan

---------------------------------------
SEMINAR FIZIČKOG ODSJEKA
---------------------------------------

Vrijeme:   utorak, 17. 6. 2008., 14:15 sati (točno)
Mjesto:     Fizički odsjek, Bijenička c. 32, predavaonica F08

  Magnetronsko rasprašivanje kratkim pulsevima velike snage
        (High Power Impulse Magnetron Sputtering):
	    Plazma i sinteza novih materijala

                      Ante Hećimović

          Nanotechnology Centre for PVD Research,
          Materials & Engineering Research Centre,
      Sheffield Hallam University, S1 1WB Sheffield, UK

Magnetronsko rasprašivanje kratkim pulsevima velike snage (High power
impulse magnetron sputtering - HIPIMS) je nova PVD (physical vapour
deposition) tehnika koja koristi izboj u plazmi za rasprašivanje mete i
deponiranje tankih filmova metala, metalnih nitrida, oksida i
nanokompozita na podlogu uzorka [1]. HIPIMS koristi kratke pulseve visoke
snage koji proizvode tok visoko ioniziranog materijala s mete na podlogu
uzorka, te gustoću elektrona veću nego u standardnom DC magnetron
sputtering-u. To je metoda kojom su uspješno deponirani materijali poput
CrN [2] i TiN [3], tvrdi tanki filmovi s primjenom u tribološkoj
protekciji automobilskih motora. Šira aplikacija HIPIMS tehnike za
deponiranje filmova zahtijeva dublje razumijevanje utjecaja vanjskih
parametara na svojstva plazme. Tri tehnike za dijagnostiku plazme su
korištene u ovom projektu pri analizi svojstva plazme: apsorpcijska
spektroskopija [4], analiza Langmuirovom probom [5] i masena
spektroskopija [6]. Rezultati prezentirani u ovom seminaru dobiveni su
korištenjem sve tri tehnike i pokazuju kako svojstva plazme, poput
temperature i gustoće elektrona i iona, ovise o gustoći struje izboja,
tlaku radnog plina i materijalu mete.

Supervisor projekta: dr. A. P. Ehiasarian; Suradnici na projektu: A.
Vetushka i A. P. Ehiasarian

[1] V. Kouznetsov, K. Macak, J. M. Schneider, U. Helmersson, and I.
Petrov, Surf. Coat. Technol. 122, 290 (1999).
[2] A. P. Ehiasarian, W. -. Munz, L. Hultman, U. Helmersson, and I.
Petrov, Surf. Coat. Technol. 163, 267 (2003).
[3] U. Helmersson, H. T. G. Hentzell, L. Hultman, M. K. Hibbs, and J. -.
Sundgren, in Physics and Chemistry of Protective Coatings, 12-14 April
1985, Universal City, CA, USA, 1986), p. 79.
[4] A. Ricard, C. Nouvellon, S. Konstantinidis, J. P. Dauchot, M.
Wautelet, and M. Hecq, Journal of Vacuum Science & Technology A (Vacuum,
Surfaces, and Films) 20, 1488 (2002).
[5] A. Vetushka and A. P. Ehiasarian, Journal of Physics D: Applied
Physics 41 (2008).
[6] S. Peter, R. Pintaske, G. Hecht, and F. Richter, Surf Coat Technol 59,
97 (1993)

					Voditelj seminara FO
					Hrvoje Buljan, hbuljan at phy.hr
---------------------------------------